'반도체 기술 중국 유출' 삼성전자 전 직원 2심서 징역 6년

반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의로 기소된 삼성전자 협력업체 전직 직원이 항소심에서도 중형을 선고받았습니다.

서울고법 형사8부(김성수 부장판사)는 오늘(23일) 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 전직 삼성전자 부장 김 모 씨에게 징역 6년과 벌금 2억 원을 선고했습니다.

1심 징역 7년, 벌금 2억 원보다는 형량이 줄었습니다.

협력업체 A 사 직원 방 모 씨에게는 1심과 마찬가지로 징역 2년 6개월을 선고됐습니다.

재판부는 김 씨에 대해 "피해 회사들에 막대한 피해가 유발될 수밖에 없고, 국가에도 악영향을 주는 중대한 범죄를 저지르고 그 범행을 주도했다"며 "피해 회복 가능성도 없어 상응하는 엄한 처벌이 필요하다"고 밝혔습니다.

다만 "피고인은 범죄 전력이 없고, 다니던 회사에서 해고된 후 국내 재취업이 어렵게 되자 부득이하게 중국 기업에 취업했고 그 과정에서 이 사건 범행에 이른 것으로 보인다"며 "핵심 기술 유출에는 관여하지 않은 점 등을 고려해 원심보다 낮은 형을 선고한다"고 설명했습니다.

김 씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 기업인 창신메모리테크놀로지(CXMT)가 제품 개발에 사용하게 한 혐의 등을 받습니다.

앞서 국가정보원은 이들의 기술 유출 정황을 포착해 2023년 5월 검찰에 수사를 의뢰했습니다.

검찰은 김 씨가 2016년 신생 업체인 CXMT로 이직하면서 반도체 '증착' 관련 자료와 7개 핵심 공정 관련 기술 자료를 유출하고 수백억 원대 금품을 수수한 것으로 의심하고 있습니다.

또 세후 기준 최소 5억 원이 넘는 금액을 제시하며 삼성전자와 관계사의 기술 인력 20여 명을 빼 간 것으로 파악했습니다.

방 씨는 김 씨와 공모해 반도체 장비를 납품하는 A 사의 설계 기술자료를 CXMT에 넘긴 혐의를 받습니다.

(사진=서울고법 제공, 연합뉴스)