"350억 원 이상 손실"…반도체 세정 기술 중국에 빼돌린 일당

<앵커>

반도체 관련 첨단 기술을 해외로 유출한 전 삼성전자 자회사 직원과 협력업체 대표 등 5명이 오늘(16일) 추가로 재판에 넘겨졌습니다. 검찰은 이 기술의 유출로 350억 원 이상의 손해를 봤다고 밝혔습니다.

여현교 기자입니다.

<기자>

세계 최초로 개발 및 양산에 성공한 초임계 반도체 세정 장비 기술을 중국으로 유출한 일당이 재판에 넘겨졌습니다.

수원지방검찰청 방위사업·산업기술 범죄수사부는 반도체 세정 장비 제작업체인 세메스의 전 연구원 등 4명을 구속기소하고 협력사 직원 1명을 불구속기소 했다고 밝혔습니다.

검찰에 따르면 세메스에서 10년 넘게 일했던 A 씨는 퇴직 후 다른 법인 회사를 설립했고, 지난해 6월 세메스의 협력사 대표로부터 해당 기술의 도면을 부정 취득한 뒤 브로커를 통해 중국에 넘긴 혐의를 받고 있습니다.

비슷한 기간 세메스 전 연구원이었던 B 씨는 메모리 등 반도체 제작 공정에 필요한 공정별 기술정보를 A 씨가 세운 회사에 유출한 혐의를 받고 있습니다.

검찰은 또 이들이 지난해 5월부터 7월까지 세메스가 세계 2번째로 개발한 또 다른 세정 장비 기술 정보도 부정한 방법으로 획득했다고 보고 있습니다.

초임계 반도체 세정장비란 반도체의 핵심 재료인 '웨이퍼'를 세정하고 건조시킬 때 고온, 고압의 이산화탄소를 이용해 건조하는 장비입니다.

이 장비는 세메스에서 최초로 개발하고 사용화에 성공한 것으로 알려졌습니다.

검찰은 이들이 3년간 총 20대의 세정 장비 등을 수출해 약 1,193억 원 상당의 이득을 취했다고 보고 있습니다.

검찰은 또 B 씨가 설립한 회사와 자신의 명의로 설립한 페이퍼컴퍼니를 통해 27억 원 상당의 회사 자금을 횡령했다고 보고 있습니다.

검찰은 범죄 수익을 환수하기 위해 반도체 세정 장비와 부동산 등을 가압류해 535억 원 상당을 보전 조치했습니다.