삼성전자가 세계 최초로 반도체 위탁 생산에서 3나노미터 공정 양산을 시작했습니다.
3나노 공정은 반도체 회로선 폭이 10억 분의 3m인 것으로 현재 반도체 제조 공정 가운데 가장 앞선 기술입니다.
반도체 위탁생산 업계 1위인 타이완의 TSMC는 한 단계 아래인 4나노 공정을 운영하고 있어 삼성전자가 이 분야에서 한발 앞서 가게 됐습니다.
삼성전자는 2025년에는 2나노 공정을 시작할 계획입니다.
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