삼성전자는 올해 시설투자 규모가 46조2천억 원으로, 사상 최고치를 기록할 것이라고 오늘(31일) 밝혔습니다.
부문별로는 반도체 사업에서 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 라인 증설, D램 공정 전환, 파운드리 증설 투자 등에 29조 5천억 원을 투입하며, 디스플레이 사업에서는 플렉서블 OLED 패널 생산설비 확대 등을 위해 14조 1천억 원을 투자할 계획이라고 설명했습니다.
삼성전자의 지난해 시설투자 규모는 25조 5천억 원이었습니다.
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