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검찰, '삼성 반도체 초미세 공정 기술 유출' 집행유예 1심에 항소

검찰, '삼성 반도체 초미세 공정 기술 유출' 집행유예 1심에 항소
서울중앙지검 정보기술 범죄수사부(이성범 부장검사)는 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외 누설 등) 및 산업기술보호법 위반 혐의 등으로 재판에 넘겨진 전 삼성전자 반도체 엔지니어 A(44) 씨 사건 1심 재판부에 항소장을 제출했다고 밝혔습니다.

A 씨는 외국 경쟁업체 입사를 위해 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 국가 핵심기술과 영업비밀 등을 유출한 혐의로 구속기소 됐습니다.

검찰은 징역 5년에 벌금 1억 원을 구형했지만, 서울중앙지법 형사합의25-1부는 해당 자료들이 해외로 유출되지 않았다고 판단해 징역 1년 6월에 집행유예 2년, 벌금 1천만 원을 선고했습니다.

검찰은 "해외로 유출될 경우 국가의 안전보장 및 국민경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 기술을 부정 취득하여 사익 목적으로 이를 활용한 사건"이라며 "공판 과정에서 혐의를 극히 일부만 인정하면서 반성하지 않은 점 등을 고려할 때 더 무거운 처벌을 받게 할 필요가 있다"고 항소 이유를 설명했습니다.

(사진=연합뉴스)
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