'ASML에 도전' 중국 업체, EUV 광원 시제품 공개…"국산화율 90%"

미국의 첨단반도체 제조장비 수출 제한에 맞서 중국이 기술 자립을 강조하는 가운데 한 중국 업체가 자체 개발한 극자외선(EUV) 노광장비 핵심부품 시제품을 공개했습니다.

15일(현지시간) 홍콩01 등 중화권 매체에 따르면 중국업체 랑다오쑤이옌은 상하이에서 열린 제26회 중국국제공업박람회에서 'EUV 광원 시스템' 시제품을 처음 선보였습니다.

홍콩01은 이 부품이 노광장비의 '심장'과 같다며, 지금까지 공개된 중국 국산 제품 가운데 가장 선두에 있다고 평가했습니다.

업체 직원은 자사 EUV 광원 시스템의 국산화율이 90%에 이르고 대다수 핵심부품을 자주적으로 연구·개발했다며, 기술적 노선이 세계 선두 업체들과 같고 웨이퍼 노광 테스트에 사용할 수 있는 수준이라고 설명했습니다.

그러면서도 해당 부품을 실제 상업적으로 양산하려면 여전히 3∼5년이 필요하다며, 주요 도전과제로 출력 증대와 장기 가동 시 안정성을 꼽았습니다.

상업용 EUV 노광장비는 광원 출력이 수백 와트급이고 고강도로 장시간 가동 시에도 안정적이어야 하는데, 시제품은 이와는 격차가 뚜렷하고 산업망 전반과의 협력을 통해 난관을 돌파해야 하는 수준인 것으로 전해졌습니다.

ASML은 2013년 당시 세계 선두이던 광원기업 사이머를 인수해 고출력 EUV 광원 기술의 산업망을 장악한 바 있습니다.

미국은 기술 수출 통제를 통해 네덜란드 업체 ASML이 독점 생산하는 EUV 노광장비의 중국 수출을 막았습니다.

EUV 노광장비는 7나노(나노미터·10억 분의 1m) 이하 첨단 반도체 생산에 핵심으로 꼽히며, EUV 노광장비 수출 통제는 중국 반도체 산업 발전에 주요 장애물로 꼽힙니다.

(사진=게티이미지)