삼성전자, 올해 시설-R＆D 분야 26조 '공격 투자'

<앵커>

삼성전자가 사상 최대규모인 26조 원을 생산설비와 연구개발분야에 투자하기로 했습니다. 복귀한 이건희 회장의 공격적인 투자전략입니다.

보도에 김형주 기자입니다.

<기자>

삼성전자가 경기도 화성 캠퍼스에서 이건희 회장이 참석한 가운데 메모리반도체 라인 기공식을 갖고 올 한해 반도체 분야에 11조 원, LCD 분야에 5조 원을 투자하는 등 생산설비와 연구개발에 모두 26조 원을 투자하겠다고 발표했습니다.

연간 투자액으로는 사상 최대 규모로 이들 분야에 신규 인력도 만 명 이상 채용할 계획입니다.

[조수인/삼성전자 반도체 사업부 사장 : 이 기공식을 통해 신규라인이 완공되면 고객 요구에 충분히 대응할 수 있을 뿐만 아니라 국가경제에도 많은 도움이 될 거라고 생각합니다.]

또 삼성전자 계열인 삼성모바일 디스플레이가 오는 2012년까지 2조 5천억 원을 들여 충남 탕정에 세계 최대 규모의 유기발광다이오드 제조 라인을 건설하는 등 그룹 계열사들도 앞으로 미래 유망 사업분야에 집중 투자한다는 계획입니다.

이 같은 공격적인 투자는 최근 경영일선에 복귀한 이건희 회장이 주도하고 있습니다.

이 회장은 어제(17일) 열린 기공식에서도 "세계 경제가 불확실할 수록 투자와 고용을 늘려 글로벌 시장을 선점해야 한다"며 공격 경영의 필요성을 강조했습니다.