SK하이닉스 반도체 기술 중국 유출한 협력사 부사장 2심도 실형

SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국에 유출하고 삼성전자 자회사의 장비 도면을 빼돌린 혐의로 기소된 협력사 부사장이 항소심에서도 실형을 선고받았습니다.

서울고법 형사7부는 오늘(18일) 산업기술보호법과 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 재판에 넘겨진 SK하이닉스 협력업체 부사장 60살 A 씨에게 징역 1년 6개월을 선고했습니다.

1심이 선고한 징역 1년에서 형량을 늘린 겁니다.

1심에서 징역형의 집행유예를 선고받은 연구소장 등 다른 직원 3명도 징역 1년∼1년 6개월의 실형으로 형이 늘었습니다.

협력사 법인은 1심의 벌금 4억 원보다 많은 벌금 10억 원을 선고받았습니다.

피고인들의 형이 늘어난 것은 SK하이닉스와 공동 개발한 기술 정보를 다른 업체에 알려준 혐의가 1심 무죄에서 유죄로 뒤집힌 영향입니다.

1심은 이 기술이 SK하이닉스와 협력사의 공동 소유물인 만큼 대외 발표만 금지된다고 판단했습니다.

하지만 2심은 "기술을 SK하이닉스의 경쟁업체 등 제3자에게 은밀하게 제공하려면 적어도 사전에 SK하이닉스의 동의를 얻었어야 했다"며 "비밀유지 대상인 산업기술에 해당하고, 이를 유출한 것은 범죄"라고 봤습니다.

재판부는 "피고인들의 범행은 피해 회사뿐 아니라 우리나라 산업 전반에 큰 영향을 미쳤다"며 "특히 부사장 A 씨는 최종 결정권자로서 범행을 지휘하고 깊이 관여했다"고 질책했습니다.

A 씨 등은 SK하이닉스와 협업하며 알게 된 HKMG 반도체 제조 기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심기술과 첨단기술, 영업비밀을 2018년쯤부터 중국 반도체 경쟁사로 유출한 혐의를 받습니다.

HKMG는 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정으로, D램 반도체의 속도를 높이면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 신기술입니다.

이들은 또 삼성전자와 자회사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 세메스의 초임계 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 있습니다.

(사진=연합뉴스)